從光纖光柵的研制角度考慮，窄線寬準分子激光器最適宜，只是因為：第一，在非鍺（Ge） 石英光纖上制作光纖光柵所需求的曝光量極大，最高達200mJ/脈沖，而且單脈沖寫入技術也要求使用準分子激光器，其他光源不適用；第二，這種光源具有良好的時間和空間相干性。